今年以來,美國連續發布的幾項禁令,讓我國芯片產業發展舉步維艱。禁令對于芯片技術和供應鏈的切斷,讓國內基本喪失了在高端芯片領域發展的能力。但這樣的局面并不會一直持續下去,11月14日,據央視財經報道,我國依托張江地區的創新努力,已經實現了芯片光刻機從無到有的突破拿到“入場券”,這將為我國芯片自強和崛起帶來極大助力!
眾所周知,光刻機是芯片制造中最核心的機器,被譽為半導體產業“皇冠上的明珠”。每顆芯片在誕生之初,都需要經過光刻機的雕刻,且精度要達到頭發絲的千分之一。對于一個國家的芯片發展來說,光刻機必不可少。但光刻機的研發和制造卻難度極大,由于系統工程非常復雜,涉及數十萬零部件和高端技術,一直以來掌握光刻機制造技術國家不多。
截至目前,全球光刻機市場主要玩家仍只有荷蘭、美國和日本,發展基本被其所壟斷。其他國家與企業要想制造和生產芯片,都必須從ASML、尼康、佳能等企業購買光刻機。一臺光刻機的價格不僅昂貴,而且獲取還十分不易,因此發展經常需要看他人的臉色。但如今,我國也擁有了光刻機的“入場券”,這意味著未來在芯片發展上再也不用受制于人。
對于我國來說,擁有了光刻機“入場券”,代表了我國芯片產業的自立更生和自強發展重新燃起了希望。此前華為創始人任正非在談到制裁時曾表示,華為面臨的最大困難是國內芯片基礎制造跟不上,其所談論的問題就包括光刻機。而眼下,國產光刻機獲得如此突破,無疑解決了困擾華為長期以來的心病。但欣喜之余,我們也還需要保持客觀和理性。
就現實情況來說,我國才剛剛入門光刻機領域,不管在產品質量和技術方面,仍然與“御三家”存在明顯差距。目前,ASML的光刻機已經達到7nm級別,而我國還在尋求28nm的突破,發展落后不止一點點。基于此,國產發展取得突破固然可喜,但也不能過分驕傲和樂觀。未來國產芯片是否能取得理想中的發展,還需要我們繼續在光刻機方面加大努力。