化學品供應系統 供酸系統 半導體CSE-CDS自動供液系統 濕法刻蝕清洗 槽車沖填CCB VMB閥箱化工廠分析室設計的簡單介紹本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高、配比精確、操作簡便等特點,具有良好的耐腐蝕性能。 控制模式:手動控制模式、自動控制模式。化學品供應系統 供酸系統 半導體CSE-CDS自動供液系統 濕法刻蝕清洗 槽車沖填CCB VMB閥箱化工廠分析室設計的詳細信息自動供液系統(CDS) 半導體CSE-CDS自動供液系統,適用對象:HF 、HNO3 、KOH 、NH4OH 、NAOH、H2SO4 、HCL 、H2O2 、IPA等。 主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高、配比精確、操作簡便等特點,具有良好的耐腐蝕性能。 控制模式:手動控制模式、自動控制模式。 上海晶福機電科技有限公司,成立于2014年12月,以源自于日本的技術,且與日本、臺灣廠商長期配合的實踐經驗。專注于微電子、半導體工廠、光纖、LCD/TFT 、太陽能、LED、化工、生物制藥領域,為客戶提供超高純輸送系統的全面解決方案。服務領域涵蓋化學品液體輸送系統(CDS)、槽車充填系統(CCB)、純凈氣體輸送系統、凈化系統、廢氣處理系統、監控系統。提供從工程咨詢、系統規劃設計、安裝建設到系統測試的完整工程服務。專業的系統設計整合能力、高效的建設管理團隊、卓越的服務精神和不斷創新的技術。為客戶創造穩定,持續,不間斷的工藝保障。晶福科技以為顧客提供令其落意的整套科學解決方案為使命,致力于保證低風險,高安全的服務系統。 以上是化學品供應系統 供酸系統 半導體CSE-CDS自動供液系統 濕法刻蝕清洗 槽車沖填CCB VMB閥箱化工廠分析室設計的詳細信息,如果您對化學品供應系統 供酸系統 半導體CSE-CDS自動供液系統 濕法刻蝕清洗 槽車沖填CCB VMB閥箱化工廠分析室設計的價格、廠家、型號、圖片有任何疑問,請聯系我們獲取化學品供應系統 供酸系統 半導體CSE-CDS自動供液系統 濕法刻蝕清洗 槽車沖填CCB VMB閥箱化工廠分析室設計的最新信息 |