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科研小型PVD真空鍍膜機 磁控濺射噴鍍導電納米涂層薄膜

作為科研小型PVD真空鍍膜機，磁控濺射噴鍍導電納米涂層薄膜是一種先進的納米材料制備技術。該技術利用磁控濺射原理，將靶材表面的原子或分子撞擊出來，并利用電場的作用，使其沉積在基材表面，形成一層具有一定

氣體質量流量計控制系統

混合氣體配比器的設計原理多種多樣，但它們都基于相同的原理：將不同比例的混合氣體通過管道或容器混合在一起，以達到所需的組成。這種設備通常由一個或多個氣體源、混合器和流量控制器組成。

微型真空探針臺 氣敏光學電信息測試

微型真空探針臺是一種用于測試光學電信號的設備，它具有體積小、重量輕、操作簡便、可重復使用等優點，廣泛應用于半導體、太陽能等領域

科研真空等離子清洗機 等離子去膠機

KT-S2DQX等離子清洗機定位于小規模生產及各大院校科學實驗使用，廣泛應用于電子、太陽能、汽車、紡織、包裝印刷、生物醫療及通用行業，其特點為處理效率高、重復性和穩定性良好，操作方便，工藝參數多樣性

等離子清洗機50W 13.56MHz的射頻電源

KT-S2DQX型等離子清洗機電源屬于150W 13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設備，主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼

CVD有哪些類型 小型濺射儀KT-Z1650PVD

物理氣相沉積（PVD）是一種在目標表面上形成薄膜或涂層的過程，該過程涉及將材料從固態轉化為氣態。這可以通過多種方式實現，如蒸發、濺射、電弧等。這種沉積方法適用于多種材料，包括金屬、合金、陶瓷和塑料等

小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD

CVD（化學氣相沉積）是一種制備無機和有機材料的化學過程，其基礎是利用氣態的化學物質在溫度和壓力作用下，在固體表面或內部形成沉積層。CVD技術可以制備出多種類型的材料，包括金屬、合金、陶瓷、化合物和

真空等離子清洗機

KT-S2DQX型等離子清洗機屬于13.56MHz的射頻電源清洗。作為一種精密干法清洗設備，主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業

等離子表面處理機

該清洗機內置高純石英倉體，容積為2升，結構為國際上的通用的真空石英法蘭密封結構。采用了新型的外觀結構設計和固態電源技術，使其有效容積增大，不同真空 氣體環境下容易匹配，且控制頻率穩定。

等離子清洗機 樣品表面處理機

KT-S2DQX型等離子清洗機屬于13.56MHz的射頻電源清洗。作為一種精密干法清洗設備，主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業