產(chǎn)品展示
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半導(dǎo)體高純PFA閥門(mén) | 隨著半導(dǎo)體制造工藝不斷向5納米及更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)邁進(jìn),對(duì)高純PFA閥門(mén)的性能要求呈現(xiàn)出指數(shù)級(jí)提升。在極紫外光刻(EUV)和原子層沉積(ALD)等關(guān)鍵制程中,閥門(mén)不僅需要維持10ppt級(jí)別的超低金屬離 |